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4N氧化铝靶材

  • 简介: 化学成分Chemical Composition: 1、 Al2O3 Target纯度Purity (wt%) ≧ 99.99% 2、杂质含量Impurity Con....
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祥细介绍

氧化铝靶材

 4N Al2O3 Target

 
产品名称/规格
Product Name / Specification
 
氧化铝靶材   Al2O3 Sputtering Target
 
规格 Grade:99.99%
 


一、化学成分Chemical Composition:

    1、 Al2O3 Target纯度Purity (wt%) ≧ 99.99%
  
    2、杂质含量Impurity Content: 单位 Unit PPm

元素Element
Fe
Cu
Pb
Cd
Ni
Mn
K
Na
Ca
Sb
Mg
Si
含量Content
6
5
7
6
5
5
3
4
8
6
8
10


二、密度Density:

    1、靶材密度Density of target: ≥3.89g/cm3

    2、靶材相对密度Relative densityof target: ≥98%

三、靶材颜色Target color:白色

四、材质致密均匀:Dense & Uniform

五、靶材尺寸Dimensional tolerance:单位 Unit (mm)

长 Length(mm)
宽Width(mm)
厚Thickness(mm)
≤400±0.1
≤400±0.1
≤30±0.1
 

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