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4N氧化锌靶材

  • 简介: 氧化锌晶体结构:六方晶系,氧化锌是很好的半导体材料,广泛应用于:液晶显示器、薄膜晶体管、发给二极管、薄膜太阳能电池等领域。....
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祥细介绍
4N 氧化锌靶材
 4N ZnO Target
产品名称/规格
Product Name / Specification
氧化锌靶材   ZnO Sputtering Target
规格 Grade:99.99%
 

    氧化锌晶体结构:六方晶系,氧化锌是很好的半导体材料,广泛应用于:液晶显示器、薄膜晶体管、发给二极管、薄膜太阳能电池等领域。
一、化学成分Chemical Composition:

    1、氧化锌纯度ZnO Purity (wt%) ≧ 99.99%

    2、杂质含量Impurity Content: 单位 Unit PPm
元素Element
Fe
Cu
Pb
Cd
Ni
Mn
K
Na
Ca
Al
Sb
Mg
Si
含量Content
8
5
9
6
9
5
5
4
3
7
6
5
8

二、密度Density:
   1、靶材密度Density of target: ≥5.5g/cm3

   2、靶材相对密度Relative densityof target: ≥98%

三、靶材颜色Target color:淡黄色Homogeneous pale yellow

四、材质致密均匀:Dense & Uniform

五、靶材尺寸Dimensional tolerance:单位 Unit (mm)
长 Length(mm)
宽Width(mm)
厚Thickness(mm)
≤500±0.1
≤400±0.1
≤30±0.1

六、ZnO薄膜的制备工艺条件为:溅射功率RF 180W,
    气压为0.4Pa,  2% O2+Ar气流量为20 SCCM (靶材
    为3英寸),

七、氧化锌靶材的涂膜性能
   
    1.可见光透过率:400-1100nm ≥ 95% (厚度100 nm 时)

    2.溅射功率密度:镀膜设备适用功率 3-4 w·cm-2
      在设备冷却系统好的情况下,最高功率可达
      10 w·cm-2

    3.涂膜的晶粒大小:一般情况下,厚度越厚,晶粒越大,
      跟制备条件有很大的关系
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