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4N氧化镍靶材

  • 简介: 4N 氧化镍靶材 4N NiO Target 一、化学成分Chemical Composition: 1、 NiO Target纯度Purity (wt%) ≧ 99.99% ....
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祥细介绍
4N 氧化镍靶材
 4N NiO Target
 
产品名称/规格
Product Name / Specification
 
氧化镍靶材 NiO  Sputtering Target
 
规格 Grade:99.99%
 

一、化学成分Chemical Composition:

   1、 NiO Target纯度Purity (wt%) ≧ 99.99%
  
   2、杂质含量Impurity Content: 单位 Unit PPm
元素Element
Fe
Pb
Cd
Cu
Mn
Al
Co
K
Ti
Na
Ca
Sb
Mg
Si
含量Content
8
5
6
9
5
7
8
4
9
8
5
6
6
7

二、密度Density:

   1、靶材密度Density of target: ≥ 6.47g/cm3

   2、靶材相对密度Relative densityof target: ≥97%

三、靶材颜色Target color:绿色

四、晶体结构:立方晶系
五、材质致密均匀:Dense & Uniform

五、靶材尺寸Dimensional tolerance:单位 Unit (mm)
长 Length(mm)
宽Width(mm)
厚Thickness(mm)
≤300±0.1
≤300±0.1
≤20±0.1
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