-k8凯发
你的位置:首页 >最新新闻 > 更多...
磁控溅射的方式及靶材的应用
来源:本站 点击数:876更新:2017/5/9 22:40:23
1、磁控溅射方式:
   磁控溅射可以分为: 直流溅射、中频溅射、射频溅射
 A、直流溅射电源便宜,沉积膜层致密度较差,一般国内光热、薄膜电池选择使用的方法,能量较低,溅射  靶材为导电的金属靶材。
 B、 射频溅射能量较高,溅射靶材可以是不导电的靶材,也可以为导电的靶材。
 C、中频溅射靶材可以ebet网站,也可以为金属靶材。
2、溅射靶材的分类与运用
  溅射靶材种类繁多,靶材的分类方法也不尽相同,根据形状分为长靶材、方靶材、圆靶材;根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材;根据应用领域不同可分为半导体关联ebet网站、记录介质ebet网站、显示ebet网站等。溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如信息存储产业,在这个产业中,使用溅射靶材制备相关的薄膜产品(硬盘、磁头、光盘等)。目前。随着信息产业的不断发展,市场上对记录介质ebet网站的需求量越来越大,记录介质靶材的研究与生产成为被广泛关注的焦点。
前一页:多元复合功能ebet网站下一页:磁控溅射原理
其它新闻
没有相关信息
【刷新】【收藏】【复制】 【关闭】
<友情连结> 凯发k8网址/ ag体育/ ebet/